服装与纺织设计专业的印迪亚·约翰逊(India Johnson)最近参加了两场纽约时装周(NYFW)的走秀，并被安排到后台参观，这是一项旨在支持创新和培养时尚行业未来领袖的计划的一部分。多亏了密歇根州立大学的合作，这次独一无二的体验才成为可能。CLC是该大学的独家商标授权机构，也是IMG的时尚活动部门，管理着世界上最伟大的运动员和时尚偶像。约翰逊是来自9所不同大学的17名学生之一。
想了解更多关于印迪亚·约翰逊的经历，请访问cal.msu.edu。
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